Resistenza al calore ricoprente dell'obiettivo della metropolitana a semiconduttore di vuoto

Luogo di origine Baoji, Shaanxi, Cina
Marca Feiteng
Certificazione GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015 GJB9001C-2017
Numero di modello Obiettivo di titanio del tubo
Quantità di ordine minimo Per essere negoziato
Prezzo To be negotiated
Imballaggi particolari Imballaggio sotto vuoto in caso di legno
Tempi di consegna Per essere negoziato
Termini di pagamento T/T
Capacità di alimentazione Per essere negoziato
Dettagli
Colore Lustro con lustro metallico grigio o grigio scuro Applicazione Semiconduttore, elettronico, displayer, ecc
Certificazione GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015 GJB9001C-2017 Imballaggio Imballaggio sotto vuoto in caso di legno
Norma ASTM B861-06 Luogo d'origine Baoji, Shaanxi, Cina
Grado Gr2 di titanio Forma Metropolitana
Evidenziare

obiettivo della metropolitana a semiconduttore di 125mm

,

obiettivo della metropolitana a semiconduttore 2940L

,

resistenza al calore dell'obiettivo della metropolitana di 133mm

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Descrizione di prodotto

133OD*125ID*2940L includono il titanio di titanio Gr2 ASTM B861-06 dell'obiettivo della metropolitana della flangia il rivestimento di vuoto del materiale di obiettivo

Nome Obiettivo di titanio del tubo
Norma

ASTM B861-06

Pacchetto di trasporto

Imballaggio sotto vuoto in caso di legno

Origine

Baoji, Shaanxi, Cina

Porto di consegnare

Porto di Xi'an, porto di Pechino, porto di Shanghai, porto di Canton, porto di Shenzhen

Dimensione φ133*φ125*2940 (includa la flangia)

 

Il trend di sviluppo della tecnologia dell'obiettivo del tubo è strettamente connesso al trend di sviluppo della tecnologia del film sottile nelle industrie a valle. Con il miglioramento del livello della tecnologia nell'industria dell'applicazione dei prodotti e delle componenti della membrana, la tecnologia dell'obiettivo dovrebbe anche essere cambiata. Inoltre, negli ultimi anni, lo schermo piatto (FPD) in gran parte ha sostituito il visualizzatore del computer ed il mercato della TV dominati dal tubo a raggi catodici (CRT). Ciò inoltre notevolmente aumenterà la richiesta del mercato e tecnica degli obiettivi di ITO. Inoltre, in termini di tecnologia di stoccaggio. La domanda di alta densità, del disco rigido della capacità grande e del disco ottico rewritable ad alta densità continua a svilupparsi, conducendo ai cambiamenti nella richiesta dell'industria dell'applicazione dei prodotti dell'obiettivo. Dopo, introdurremo i campi di applicazione principale dei materiali di obiettivo ed il trend di sviluppo dei materiali di obiettivo in questi campi.
Il rivestimento di vuoto è un metodo di riscaldamento e di evaporazione materiali metallici o non metallici in aria di alto vuoto formare un film sottile sulla superficie delle parti placcate (metalli, semiconduttori o isolanti).
Il rivestimento di vuoto è un aspetto importante dell'applicazione di vuoto. È una nuova tecnologia basata su tecnologia del vuoto, che usa metodi fisici o chimici per assorbire il fascio di elettroni, il fascio molecolare, il raggio ionico, il fascio del plasma, la radiofrequenza ed il controllo magnetico per fornire la ricerca scientifica e la produzione pratica. In breve, il metodo di deposito o di deposito il metallo, la lega o del composto nel vuoto è effettuato sull'oggetto rivestito (substrato, substrato o substrato), che è chiamato rivestimento di vuoto.

 

Vantaggi principali
Alta forza di specificazione di densità bassa
Personalizzazione su ordinazione di richiesta
Resistenza della corrosione eccellente
Buona resistenza al calore
Prestazione eccellente di bassa temperatura
Buone proprietà termiche
Modulo elastico basso