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Obiettivo OD150*ID123*1091mm della metropolitana di acciaio inossidabile del ODM

  • ODM Stainless Steel Tube Target OD150*ID123*1091mm
Luogo di origine Baoji, Shaanxi, Cina
Marca Feiteng
Certificazione GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015 GJB9001C-2017
Numero di modello Obiettivo della metropolitana di acciaio inossidabile
Quantità di ordine minimo Per essere negoziato
Prezzo To be negotiated
Imballaggi particolari Imballaggio sotto vuoto in caso di legno
Tempi di consegna Per essere negoziato
Termini di pagamento T/T
Capacità di alimentazione Per essere negoziato
Dettagli
Marca Feiteng Numero di modello Obiettivo della metropolitana di acciaio inossidabile
Dimensione φ150*φ123*1091mm Certificazione GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015 MANAGEMENT SYSTEM CNAS C034-M
Luogo di origine Baoji, Shaanxi, Cina Imballaggio Imballaggio sotto vuoto
Grado d'acciaio 304 Linea tipo della saldatura Senza cuciture
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Obiettivo della metropolitana di acciaio inossidabile del ODM

,

Obiettivo OD150 della metropolitana di acciaio inossidabile

,

Obiettivi del tubo senza saldatura ID123
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Descrizione di prodotto

Acciaio inossidabile 304 dell'obiettivo OD150*ID123*1091mm della metropolitana di acciaio inossidabile

Prodotto Obiettivo della metropolitana di acciaio inossidabile
Dimensione φ150*φ123*1091mm
Grado Gr5 di titanio
Imballaggio Caso di legno
Porto della consegna Porto di Xi'an, porto di Pechino, porto di Shanghai, porto di Canton, porto di Shenzhen

 

L'industria a semiconduttore scambia qualche parola, mira al materiale, il materiale a semiconduttore può essere diviso nel materiale del wafer ed il materiale da imballaggio, materiale da imballaggio ha un ostacolo tecnico relativamente basso confrontato ai materiali di costruzione del wafer. Ci sono sette generi di materiali e di prodotti chimici a semiconduttore in questione nella produzione dei wafer, uno di cui è il materiale di obiettivo farfugliare. Il materiale di obiettivo è il materiale di obiettivo bombardato dalle particelle fatte pagare ad alta velocità. Cambiando i materiali di obiettivo differenti (quali alluminio, rame, acciaio inossidabile, il titanio, l'obiettivo del nichel, ecc.), i sistemi differenti del film (quali il film superhard, resistente all'uso, anticorrosivo della lega, ecc.) possono essere ottenuti.

 

La purezza è uno degli indici principali della prestazione del materiale di obiettivo, perché la purezza del materiale di obiettivo ha una grande influenza sulle proprietà del film. Tuttavia, nell'applicazione pratica, i requisiti della purezza del materiale di obiettivo sono inoltre differenti. Le impurità nel prodotto solido e nell'ossigeno e nel vapore acqueo nei pori sono le fonti principali di deposito del film. Per ridurre la porosità nel solido del materiale di obiettivo e per migliorare le proprietà del film farfugliato, il materiale di obiettivo è richiesto solitamente per avere un più ad alta densità. La densità del materiale di obiettivo colpisce non solo il tasso farfugliare ma le proprietà anche elettriche ed ottiche dei film. Più alta la densità del materiale di obiettivo, migliore la prestazione del film. Inoltre, la densità e la forza del materiale di obiettivo possono essere migliorate in moda da potere sopportare meglio il materiale di obiettivo lo stress termico nel processo farfugliare. La densità è inoltre uno degli indici della prestazione chiave del materiale di obiettivo.

 

 

Etichette:

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