Vuoto che ricopre l'obiettivo di titanio 133OD*125ID*840L farfugliare Gr1

Obiettivo di titanio Gr1 di titanio ASTM B861-06 della metropolitana un 133OD*125ID*840L che farfuglia l'obiettivo ricoprente di vuoto

L'obiettivo ricoprente è una fonte farfugliare che forma i vari film funzionali sul substrato dal magnetron che farfuglia, placcatura dello ione dell'multi-arco o altri tipi di sistemi di rivestimento nelle circostanze tecnologiche appropriate. Per metterlo semplicemente, il materiale di obiettivo è il materiale di obiettivo del bombardamento ad alta velocità delle particelle fatte pagare. Una volta utilizzate in armi laser ad alta energia, le densità di potenza differenti, le forme d'onda differenti dell'uscita e le lunghezze d'onda differenti del laser interagiscono con differenti obiettivi, uccisione differente e gli effetti della distruzione saranno prodotti. Per esempio, il magnetron evaporativo che farfuglia il rivestimento è rivestimento riscaldato di evaporazione, film di alluminio, ecc. cambia i materiali di obiettivo differenti (quali alluminio, rame, acciaio inossidabile, il titanio, l'obiettivo del nichel, ecc.), può ottenere i sistemi differenti del film (quali il film duro, resistente all'uso, anticorrosivo eccellente della lega, ecc.)
Un campo magnetico ortogonale ed il campo elettrico si aggiungono fra il palo farfugliato dell'obiettivo (catodo) e l'anodo ed il gas inerte richiesto (solitamente gas dell'AR) è riempito in una camera di alto vuoto. Il magnete permanente forma un campo magnetico di 250 ~ 350 gauss sulla superficie del materiale di obiettivo, che forma un campo elettromagnetico ortogonale con il campo elettrico ad alta tensione. Nell'ambito dell'azione del campo elettrico, la ionizzazione di gas dell'AR negli ioni positivi e gli elettroni, obiettivo ed ha determinata pressione negativa, dall'azione dell'obiettivo estremamente dal colpito dal campo magnetico e dall'aumento della probabilità di lavoro di ionizzazione di gas, formano un plasma ad alta densità vicino al catodo, di ione argon nell'ambito dell'azione di forza di Lorentz, la velocità su per volare alla superficie dell'obiettivo, bombardante la superficie dell'obiettivo ad un'alta velocità, gli atomi farfugliati sull'obiettivo seguono il principio e la mosca di conversione di slancio a partire dall'obiettivo con alta energia cinetica al substrato per deposito del film. Farfugliare del magnetron è diviso generalmente in due generi: CC che farfuglia e farfugliare di rf. Il principio di CC che farfuglia l'attrezzatura è semplice ed il tasso è veloce quando farfuglia il metallo. Farfugliare di rf è più ampiamente usato, oltre a farfugliare i materiali conduttivi, anche può farfugliare i materiali non conduttivi, ma anche farfugliare reattivo per preparare gli ossidi, azoto e carburo ed altri materiali composti. Se la frequenza di radiofrequenza è aumentata, si trasforma in farfugliare del plasma di microonda. Ora, il tipo farfugliare di risonanza di ciclotrone dell'elettrone (ECR) del plasma di microonda è comunemente usato.

Caratteristiche

1. Densità ed ad alta resistenza bassi
2. su misura secondo i disegni richiesti dai clienti
3. forte resistenza della corrosione
4. forte resistenza al calore
5. resistenza di bassa temperatura
6. resistenza al calore