Il vuoto che ricopre la metropolitana di titanio Gr1 mira a ASTM B861-06A OD133mm

La tecnologia del rivestimento di vuoto è divisa generalmente in due categorie, cioè nella tecnologia fisica di applicazione a spruzzo (PVD) e nella tecnologia chimica di applicazione a spruzzo (CVD).
La tecnologia fisica di applicazione a spruzzo si riferisce al metodo direttamente di deposito del materiale di placcaggio sulla superficie del substrato tramite gassificazione negli atomi e nelle molecole o ionizzazione negli ioni dai vari termini fisici di metodi sotto vuoto. I film duri della reazione principalmente sono preparati tramite applicazione a spruzzo fisica, che usa alcuni processi fisici, come evaporazione termica dei materiali o farfugliare degli atomi sulla superficie dei materiali nell'ambito del bombardamento dello ione, realizzare il processo controllabile di trasferimento degli atomi dalla materia grezza al film. La tecnologia fisica di applicazione a spruzzo presenta molti vantaggi, quale la buona forza legante base/del film, uniforme ed il film compatto, lo spessore di film controllabile, l'ampio obiettivo, ampia gamma farfugliare, film spesso può essere depositato, film della lega con composizione stabile e buona ripetibilità. Allo stesso tempo, l'applicazione a spruzzo fisica può essere usata come il processo d'elaborazione finale per il HSS ed ha cementato gli strumenti del film del carburo perché la temperatura d'elaborazione può essere controllata sotto 500℃. Poiché la tecnologia fisica di applicazione a spruzzo può notevolmente migliorare la prestazione tagliente degli utensili per il taglio, la gente sta facendo concorrenza per sviluppare il rendimento elevato e l'alta attrezzatura dell'affidabilità, ma anche l'espansione dei suoi campi dell'applicazione, particolarmente nell'applicazione dell'acciaio ad alta velocità, del carburo e degli strumenti ceramici per la ricerca più approfondita.
La tecnologia chimica di applicazione a spruzzo è il gas elementare che contiene una base di rifornimento dell'elemento o del composto della membrana, con l'aiuto della fase gassosa o il substrato sulla superficie di una reazione chimica, sul metodo della matrice del metallo di fabbricazione o il film composto, pricipalmente compreso applicazione a spruzzo chimica di pressione atmosferica, applicazione a spruzzo chimica di pressione bassa ed ha entrambe le caratteristiche applicazione a spruzzo chimica del plasma di PVD e di CVD, ecc.

Caratteristiche

1. Densità ed ad alta resistenza bassi
2. su misura secondo i disegni richiesti dai clienti
3. forte resistenza della corrosione
4. forte resistenza al calore
5. resistenza di bassa temperatura
6. resistenza al calore