Obiettivo ad alta resistenza della metropolitana del Ti di CVD Gr1 di densità bassa PVD

Obiettivo di titanio Gr1 di titanio ASTM B861-06 del rivestimento di vuoto dell'obiettivo della metropolitana un 133OD*125ID*840

L'obiettivo ricoprente è una fonte farfugliare che forma i vari film funzionali sul substrato dal magnetron che farfuglia, placcatura dello ione dell'multi-arco o altri tipi di sistemi di rivestimento nelle circostanze tecnologiche appropriate. Per metterlo semplicemente, il materiale di obiettivo è il materiale di obiettivo del bombardamento ad alta velocità delle particelle fatte pagare. Una volta utilizzate in armi laser ad alta energia, le densità di potenza differenti, le forme d'onda differenti dell'uscita e le lunghezze d'onda differenti del laser interagiscono con differenti obiettivi, uccisione differente e gli effetti della distruzione saranno prodotti. Il rivestimento di vuoto si riferisce ai materiali di riscaldamento del metalloide o del metallo nelle circostanze di alto vuoto, di modo che evapora e condensa sulla superficie delle parti placcate (metallo, semiconduttore o isolante) e forma un metodo del film. La tecnologia del rivestimento di vuoto è divisa generalmente in due categorie, cioè nella tecnologia fisica di applicazione a spruzzo (PVD) e nella tecnologia chimica di applicazione a spruzzo (CVD). La tecnologia fisica di applicazione a spruzzo si riferisce al metodo direttamente di deposito del materiale di placcaggio sulla superficie del substrato tramite gassificazione negli atomi e nelle molecole o ionizzazione negli ioni dai vari termini fisici di metodi sotto vuoto. Caratteristiche:
(1) tutti i tipi di tecnologia del rivestimento ha bisogno di un ambiente specifico di vuoto, per assicurarsi che il materiale del film nell'evaporazione di riscaldamento o processo farfugliare costituito dal movimento delle molecole del vapore, non tramite la collisione atmosferica, il blocchetto e l'interferenza di molte molecole del gas ed eliminare gli effetti contrari delle impurità nell'atmosfera.
(2) tutti i tipi di tecnologia del rivestimento deve avere partenza o arrivo di evaporazione, per vaporizzare il materiale del film in gas. dovuto il miglioramento continuo di partenza o di arrivo, la gamma di selezione di materiali di produzione cinematografica notevolmente è stata ampliata. Se il metallo, la lega del metallo, il composto intermetallico, il materiale ceramico o organico, tutti i tipi di metallo ed i film dielettrici possono essere cotti a vapore, ma anche i materiali differenti possono essere cotti a vapore allo stesso tempo per ottenere i film a più strati.
(3) l'evaporazione o farfugliare i materiali di produzione cinematografica, nel corso della formazione del film con il pezzo in lavorazione da placcare, lo spessore di film può essere misurato più esattamente e controllato, per assicurare l'uniformità dello spessore di film.

Caratteristiche

1. Densità ed ad alta resistenza bassi
2. su misura secondo i disegni richiesti dai clienti
3. forte resistenza della corrosione
4. forte resistenza al calore
5. resistenza di bassa temperatura
6. resistenza al calore