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GMR filma Gr2 che farfuglia la metropolitana mira a per il disco a magneto ottico
Luogo di origine | Baoji, Shaanxi, Cina |
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Marca | Feiteng |
Certificazione | GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015; GJB9001C-2017 |
Numero di modello | Obiettivo di titanio del tubo |
Quantità di ordine minimo | Per essere negoziato |
Prezzo | To be negotiated |
Imballaggi particolari | Imballaggio sotto vuoto in caso di legno |
Tempi di consegna | Per essere negoziato |
Termini di pagamento | T/T |
Capacità di alimentazione | Per essere negoziato |

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xCertificazione | GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015; GJB9001C-2017 | Brand name | Feiteng |
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Numero di modello | Obiettivo di titanio del tubo | Imballaggio | Imballaggio sotto vuoto in caso di legno |
Luogo d'origine | Baoji, Shaanxi, Cina | Grado | Gr2 |
Specificazione | ASTM B861-06 | Dimensione | φ133*φ125*2140 |
Evidenziare | Gr2 che farfuglia gli obiettivi della metropolitana,GMR filma gli obiettivi della metropolitana,Obiettivo della metropolitana di ASTM B861 Gr2 |
Obiettivo di titanio Gr2 di titanio ASTM B861-06 della metropolitana farfugliare dell'obiettivo 133OD*125ID*2140L
Nome dell'oggetto |
Obiettivo di titanio del tubo |
Dimensione | φ133*φ125*2140 |
Grado | Gr2 |
Imballaggio | Caso di legno |
Porto del posto | Porto di Xi'an, porto di Pechino, porto di Shanghai, porto di Canton, porto di Shenzhen |
L'obiettivo ricoprente è una fonte farfugliare che forma i vari film funzionali sul substrato dal magnetron che farfuglia, placcatura dello ione dell'multi-arco o altri tipi di sistemi di rivestimento nelle circostanze tecnologiche appropriate. Per metterlo semplicemente, il materiale di obiettivo è il materiale di obiettivo del bombardamento ad alta velocità delle particelle fatte pagare. Una volta utilizzate in armi laser ad alta energia, le densità di potenza differenti, le forme d'onda differenti dell'uscita e le lunghezze d'onda differenti del laser interagiscono con differenti obiettivi, uccisione differente e gli effetti della distruzione saranno prodotti. Fra tutte le industrie dell'applicazione, l'industria a semiconduttore ha la maggior parte dei requisiti di qualità rigorosi dell'obiettivo che farfuglia i film. Oggi, (i chip di silicio a 12 pollici della epistassi 300) sono stati fatti. Collega stanno restringendo di larghezza. I produttori del wafer richiedono l'grande, elevata purezza, la segregazione bassa e la grana fine, che richiede la migliore microstruttura dell'obiettivo fabbricato. Il diametro della particella e l'uniformità di cristallo del materiale di obiettivo sono stati considerati come i fattori chiave che colpiscono il tasso di deposito di film sottili. Nell'aspetto della tecnologia di stoccaggio, lo sviluppo dei dischi rigidi ad alta densità e di grande capacità richiede tantissimi film di GMR. I film compositi a più strati di CoF~Cu ora sono ampiamente usati in film di GMR. Il materiale di obiettivo della lega di TbFeCo stato necessario per il disco magneto-ottico ancora sta essendo più ancora sviluppato. Il disco magneto-ottico ha fatto con ha le caratteristiche di grande capacità di stoccaggio, di tempo di impiego lungo e di scrittura cancellabile senza contatto ripetuta.
Caratteristiche
1. Densità ed ad alta resistenza bassi
2. su misura secondo i disegni richiesti dai clienti
3. forte resistenza della corrosione
4. forte resistenza al calore
5. resistenza di bassa temperatura
6. resistenza al calore